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钛靶材

钛靶材(图1)

产品详情-------------------------------------------------------------------------

品名:靶材

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牌号:Ta1  Ta2

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纯度:≥99.95%

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密度:16.67g/cm3

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用途:钽溅射靶材是通过压力加工获得的钽片材,化学纯度高,晶粒尺寸小,再结晶

组织和三个轴向的一致性好,主要应用于光导纤维,半导体晶片和集成电路的溅射沉积

镀膜,靶材可用于阴极溅射涂层,高真空吸气活性材料等.是重要的薄膜技术用材料






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